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宏崴實業 | 您的製程的專屬拋光夥伴

 展覽資訊

    • 日期: 2026 年9/2 (三)-9/3(四)早上10點至下午5點
    • 9/4 (五)早上10點至下午4點
    • 地點: 台北南港展覽館2館 1樓
    • 攤位號碼:Q5839

      迎戰次世代 AI 機櫃的功耗極限,今年半導體展不容錯過的解熱終極解答!

      因應全球科技巨頭聚焦的「鑽石散熱」新浪潮,宏崴實業從鑽石晶圓、鑽石銅到關鍵微粉,全面助攻 AI 晶片跨越液冷時代的熱牆。

      歡迎蒞臨我們的展位,看鑽石黑科技如何完美匹配最新 GPU 架構,釋放 AI 巔峰算力!

 

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展覽時間

9/02-03 10:00am-05:00pm

09/04 10:00am-04:00pm

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宏崴實業展覽亮點

宏崴實業電子級 CVD 鑽石散熱基板與鑽石晶圓產品實拍高功率散熱方案

客製化 CVD 鑽石基板 / 鑽石晶圓

布局次世代「鑽石散熱」新浪潮,滿足 AI 算力時代最極端的解熱與先進封裝需求
【核心優勢】
  • 極致散熱:具備已知材料中最高的熱導率,能迅速攤平高功耗晶片的局部熱點(Hotspots)。

  • 絕對絕緣:具備高電絕緣性,是唯一能直接貼合在裸晶與精密線路旁的終極封裝材料。
    (其餘強韌耐磨、頂級光學等特點保留…)

全方位應用領域】
  • AI 算力與半導體封裝(市場聚焦核心)

    • 次世代鑽石散熱(Diamond Cooling):因應下一代 AI 伺服器與大型資料中心功耗飆升,
      鑽石基板已成為突破 AI 算力熱牆(Thermal Wall)的關鍵黑科技。

    • 先進封裝技術:完美支援 2.5D/3D 堆疊、HBM(高頻寬記憶體)周邊散熱,
      以及 GaN(氮化鎵)或 SiC(碳化矽)等高功率晶體的熱擴散層。

    • 高頻射頻基板:結合高絕緣與高熱導,專為 5G/6G 高頻通信、射頻(RF)元件設計

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高純度客製化 鑽石微粉

驅動次世代鑽石散熱與半導體精密加工的核心微粒
迎戰AI算力 鑽石微粉已成為突破散熱瓶頸與晶圓平坦化(CMP)的關鍵戰略物資 
【核心優勢】
  • 極高純度:提供高純度、粒徑精準、高分散性的客製化鑽石微粉。

  • 極致導熱填料:保留鑽石終極熱傳導特性,為次世代散熱材料的最佳無機填料。

【核心應用領域】
  • 半導體先進製程

    • 第三代半導體拋光:專為SIC(碳化矽)與GaN(氮化鎵)及鑽石晶圓提供超精密拋光

    • CMP修整原料:高強度 耐磨耗 大幅延長半導體消耗品壽命

    • 次世代AI散熱材料(TIMs) : 超高導熱填料 混入矽膠或樹脂 調配成高功耗AI晶片與資料中心伺服器必備的終極散熱片

    • 精密工業與光學 : 高階光學拋光 藍寶石基板 雷射窗口與先進透鏡的超精密研磨

    • 精密刀具塗層:微鑽頭與精密刀具的電鍍耐磨層 全面倍增工具壽命

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客製化CVD含硼鑽石(Boron-Doped Diamond, BDD)

兼具「極致散熱」與「超寬能隙半導體」特性的終極夢幻材料
透過在 CVD 鑽石生長過程中精密掺雜「硼(Boron)」元素,使原本絕緣的鑽石轉化為具備高導電性、     超寬能隙的 p 型半導體。它不僅能像鑽石一樣瘋狂散熱,更能直接製成耐高壓、耐高頻的晶片元件,是突破極端環境與 AI 算力極限的終極解方。
【核心優勢】
    • 導電散熱一體化:在維持鑽石極高熱導率的同時,獲得優異的電導率。

    • 超越 SiC / GaN:具備超寬能隙與極高擊穿電場,能承受極致的功率密度。

    • 頂級電化學特性:擁有已知材料中最寬的電化學窗口,高度抗腐蝕。

    • 極端環境耐受:耐高溫、抗輻射、耐強酸鹼,在嚴苛工況下展現長效穩定性。

【核心應用領域】
    • 次世代極高功率半導體(AI 與電動車)

      直接製作耐超高壓、大電流的 AI 伺服器電源管理晶片與逆變器,從源頭降低發熱並極速解熱。

    • 高頻高功率射頻元件(5G / 6G / 衛星)

      應用於基站與衛星通訊的高頻微波元件,完美解決高頻傳輸下的極端散熱瓶頸。

    • 高階電化學水處理(BDD 電極)

      作為終極電極材料,高效降解半導體廠與化工廠的劇毒難分解廢水(如 PFAS、COD)。

    • 生醫感測器(Bio-sensors)

      結合生物相容性與電導率,用於製造人體內高精確度的即時電化學監測感測器。

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客製化鑽石銅金屬基複合材料(Cu-Diamond MMC)

融合「鑽石超高導熱」與「金屬銅低膨脹」的 AI 晶片封裝終極載板
在 AI 機櫃功耗飆升的時代,傳統的純銅散熱片已達物理極限。
宏崴實業提供鑽石銅(Cu-Diamond)複合材料,利用高科技熱壓燒結或滲透技術,將鑽石微粒與金屬銅完美融合。它不僅擁有高達 500~700 W/m·K 的超高熱導率(達純銅的 1.5~2 倍),更具備與半導體晶片完美匹配的熱膨脹係數(CTE),是解決次世代 AI 高功率元件(如 CPU、GPU、GaN)熱應力與瞬間高熱點的黃金解答
【核心優勢】
      • 突破純銅極限:超高熱導率,像熱海綿般瞬間攤平 AI 晶片的局部高熱點。

      • 完美熱匹配(低 CTE):膨脹係數與矽、碳化矽接近,徹底解決晶片因冷熱交替而翹曲、開裂的封裝痛點。

      • 優異的加工性:保留金屬加工特性,可精密切割、打孔與電鍍,降低量產門檻。

      • 高性價比方案:相較於高昂的純鑽石晶圓,提供大批量產中最具競爭力的終極散熱解方。

【核心應用領域】
      • AI 與 5G 伺服器散熱襯底(Heat Spreaders)

        專為高功耗 GPU、CPU 提供第一線熱擴散層,直接貼合裸晶,顯著降低內部溫升。

      • 先進封裝技術(2.5D / 3D 堆疊)

        作為高階熱界面載板,在高密度整合的微小空間內提供高效、均勻的散熱路徑。

      • 大功率射頻(RF)與雷射二極體(LD)

        應用於 5G/6G 基站的 GaN 元件與高階雷射,確保高功率下不光衰、不降頻。

      • 電動車功率模組(IGBT / SiC)

        用於核心動力系統的逆變器與功率模組,提升能源轉換效率並確保極端工況的可靠性。

宏崴實業 Meta Polishing 超精拋光機台 AS-4100 與 AS-5190:半導體晶圓、化合物半導體與先進材料基板之化學機械超精密平坦化系統,挑戰極致奈米級與埃級表面粗糙度(Ra)。

超精密拋光是現代電子工業的靈魂 Meta Polishing

型號:AS-4100 , AS-5190

超精密拋光在製造業中有多重要呢?它的應用領域就能夠直接說明: 集成電路製造、醫療器械、汽車配件、數碼配件、精密模具、各類軸承、航空航天設備。

作為一項技術要求極高的合成工藝,超精密拋光必須由設備和材料(拋光液)組成,兩者缺一不可

【核心優勢】
        • 可實現自由曲面的超精拋光。

        • 在顯微鏡下 100 倍表面依舊無拋痕。

        • 可以有效地降低表面粗糙度,並且控制 Ra 值。

        • 有效地降低波紋度Wa值

        • 可精準維持工件拋光後面型精良。

        • 適用於各種材質,例如:無電解鎳、銅、鋁、鎢鋼以及模具鋼等。

 
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超精拋光解決方案:實現奈米級精度的關鍵

面對 難磨材料超硬金屬等工件拋光嚴苛需求,宏崴提供專為其設計的研磨拋光耗材與加工設備。

我們深知這些材料在製程中的挑戰,透過精準的配方與設備結構設計,助您減少加工時程、克服表面缺陷,達到元件所需的奈米級表面光潔度與平面度,全面提升產品效能與良率。

您有這些困擾嗎?宏崴提供解決方案!

宏崴解方: 我們的鑽石磨料工具能依需求調整比例設計,專為進行精細、可控的切削,避免微裂紋與崩邊,確保表面平整度與粗糙度穩定。

宏崴解方: 我們的客製化研磨配方與專業技術支援,能精準分析並解決由耗材引起的表面缺陷,顯著提升產品良率。

宏崴解方: 透過創新的研磨拋光耗材優化的製程建議,幫助您縮短拋光時間,大幅提升生產效率,降低單片成本。

宏崴解方: 宏崴在確保卓越品質的同時,提供具市場競爭力的價格,為您實現更優異的總體擁有成本 (TCO)。

宏崴解方: 我司鑽石研磨工具具備極高硬度與耐磨性,可大幅提升切削率與加工效率,縮短加工時間。

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