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宏崴实业 | 您的制程的专属抛光伙伴

  • 展览资讯:

    • 日期: 2026 年9/2 (三)-9/3(四)早上10点至下午5点
      9/4 (五)早上10点至下午4点
    • 地点:台北南港展览馆2馆 1楼
    • 摊位号码:Q5839

      迎戰次世代 AI 機櫃的功耗極限,今年半導體展不容錯過的解熱終極解答!

      因應全球科技巨頭聚焦的「鑽石散熱」新浪潮,宏崴實業從鑽石晶圓、鑽石銅到關鍵微粉,全面助攻 AI 晶片跨越液冷時代的熱牆。

      歡迎蒞臨我們的展位,看鑽石黑科技如何完美匹配最新 GPU 架構,釋放 AI 巔峰算力!

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展览时间

09/02-03 10:00am-05:00pm

09/04 10:00am-04:00pm

展览亮点

宏崴實業電子級 CVD 鑽石散熱基板與鑽石晶圓產品實拍高功率散熱方案

客制化 CVD 钻石基板 / 钻石晶圆

布局次世代「鑽石散熱」新浪潮,滿足 AI 算力時代最極端的解熱與先進封裝需求

【核心优势】

  • 极致散热:具备已知材料中最高的热导率,能迅​​速摊平高功耗晶片的局部热点(Hotspots)。
  • 绝对绝缘:具备高电绝缘性,是唯一能直接贴合在裸晶与精密线路旁的终极封装材料。
    (其余强韧耐磨、顶级光学等特点保留…)

【全方位应用领域】

AI 算力与半导体封装(市场聚焦核心)

  • 次世代钻石散热(Diamond Cooling):因应下一代 AI 伺服器与大型资料中心功耗飙升,
    钻石基板已成为突破 AI 算力热墙(Thermal Wall)的关键黑科技。
  • 先进封装技术:完美支援 2.5D/3D 堆叠、HBM(高频宽记忆体)周边散热,
    以及 GaN(氮化镓)或 SiC(碳化矽)等高功率晶体的热扩散层。
  • 高频射频基板:结合高绝缘与高热导,专为 5G/6G 高频通信、射频(RF)元件设计
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高纯度客制化 钻石微粉

驱动次世代钻石散热与半导体精密加工的核心微粒
迎战AI算力 钻石微粉已成为突破散热瓶颈与晶圆平坦化(CMP)的关键战略物资

【核心优势】

  • 极高纯度:提供高纯度、粒径精准、高分散性的客制化钻石微粉。
  • 极致导热填料:保留钻石终极热传导特性,为次世代散热材料的最佳无机填料。

【全方位应用领域】

  • 半导体先进制程
  • 第三代半导体抛光:专为SIC(碳化矽)与GaN(氮化镓)及钻石晶圆提供超精密抛光
  • CMP修整原料:高强度 耐磨耗 大幅延长半导体消耗品寿命
  • 次世代AI散热材料(TIMs) : 超高导热填料 混入矽胶或树脂 调配成高功耗AI晶片与资料中心伺服器必备的终极散热片。
  • 精密工业与光学 : 高阶光学抛光 蓝宝石基板 雷射窗口与先进透镜的超精密研磨
  • 精密刀具涂层:微钻头与精密刀具的电镀耐磨层 全面倍增工具寿命
boron-doped-diamond-bdd-substrate-chips.png

客制化CVD含硼钻石(Boron-Doped Diamond, BDD)

兼具「极致散热」与「超宽能隙半导体」特性的终极梦幻材料
透过在 CVD 钻石生长过程中精密掺杂「硼(Boron)」元素,使原本绝缘的钻石转化为具备高导电性、 超宽能隙的 p 型半导体。它不仅能像钻石一样疯狂散热,更能直接制成耐高压、耐高频的晶片元件,是突破极端环境与 AI 算力极限的终极解方。

【核心优势】

  • 导电散热一体化:在维持钻石极高热导率的同时,获得优异的电导率。
  • 超越 SiC / GaN:具备超宽能隙与极高击穿电场,能承受极致的功率密度。
  • 顶级电化学特性:拥有已知材料中最宽的电化学窗口,高度抗腐蚀。
  • 极端环境耐受:耐高温、抗辐射、耐强酸碱,在严苛工况下展现长效稳定性。


【全方位应用领域】

  • 次世代极高功率半导体(AI 与电动车)
  • 直接制作耐超高压、大电流的 AI 伺服器电源管理晶片与逆变器,从源头降低发热并极速解热。
  • 高频高功率射频元件(5G / 6G / 卫星)
  • 应用于基站与卫星通讯的高频微波元件,完美解决高频传输下的极端散热瓶颈。
  • 高阶电化学水处理(BDD 电极)
  • 作为终极电极材料,高效降解半导体厂与化工厂的剧毒难分解废水(如 PFAS、COD)。
  • 生医感测器(Bio-sensors)
  • 结合生物相容性与电导率,用于制造人体内高精确度的即时电化学监测感测器。
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客制化钻石铜金属基复合材料(Cu-Diamond MMC)

融合「钻石超高导热」与「金属铜低膨胀」的 AI 晶片封装终极载板
在 AI 机柜功耗飙升的时代,传统的纯铜散热片已达物理极限。
宏崴实业提供钻石铜(Cu-Diamond)复合材料,利用高科技热压烧结或渗透技术,将钻石微粒与金属铜完美融合。它不仅拥有高达 500~700 W/m·K 的超高热导率(达纯铜的 1.5~2 倍),更具备与半导体晶片完美匹配的热膨胀系数(CTE),是解决次世代 AI 高功率元件
(如 CPU、GPU、GaN)热应力与瞬间高热点的黄金解答

【核心优势】

  • 突破纯铜极限:超高热导率,像热海绵般瞬间摊平 AI 晶片的局部高热点。
  • 完美热匹配(低 CTE):膨胀系数与矽、碳化矽接近,彻底解决晶片因冷热交替而翘曲、开裂的封装痛点。
  • 优异的加工性:保留金属加工特性,可精密切割、打孔与电镀,降低量产门槛。
  • 高性价比方案:相较于高昂的纯钻石晶圆,提供大批量产中最具竞争力的终极散热解方。

【全方位应用领域】

  • AI 与 5G 伺服器散热衬底(Heat Spreaders)
  • 专为高功耗 GPU、CPU 提供第一线热扩散层,直接贴合裸晶,显著降低内部温升。
  • 先进封装技术(2.5D / 3D 堆叠)
  • 作为高阶热界面载板,在高密度整合的微小空间内提供高效、均匀的散热路径。
  • 大功率射频(RF)与雷射二极体(LD)
  • 应用于 5G/6G 基站的 GaN 元件与高阶雷射,确保高功率下不光衰、不降频。
  • 电动车功率模组(IGBT / SiC)
  • 用于核心动力系统的逆变器与功率模组,提升能源转换效率并确保极端工况的可靠性。
宏崴實業 Meta Polishing 超精拋光機台 AS-4100 與 AS-5190:半導體晶圓、化合物半導體與先進材料基板之化學機械超精密平坦化系統,挑戰極致奈米級與埃級表面粗糙度(Ra)。

超精密抛光是现代电子工业的灵魂 Meta Polishing

型号:AS-4100 , AS-5190
超精密抛光在制造业中有多重要呢?它的应用领域就能够直接说明: 集成电路制造、医疗器械、汽车配件、数码配件、精密模具、各类轴承、航空航天设备。

作为一项技术要求极高的合成工艺,超精密抛光必须由设备和材料(抛光液)组成,两者缺一不可

【核心优势】

  • 可实现自由曲面的超精抛光。
  • 在显微镜下 100 倍表面依旧无抛痕。
  • 可以有效地降低表面粗糙度,并且控制 Ra值。
  • 有效地降低波纹度Wa。
  • 可精准维持工件抛光后面型精良。
  • 适用于各种材质,例如:无电解镍、铜、铝、钨钢以及模具钢等。

 

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超精抛光解决方案:实现奈米级精度的关键

面对 难磨材料与超硬金属等工件抛光严苛需求,宏崴提供专为其设计的研磨抛光耗材与加工设备。

我们深知这些材料在制程中的挑战,透过精准的配方与设备结构设计,助您减少加工时程、克服表面缺陷,达到元件所需的奈米级表面光洁度与平面度,全面提升产品效能与良率。

您有这些困扰吗?宏崴提供解决方案!

宏崴解方: 我们的金刚石磨料工具能依需求调整比例设计,专为进行精细、可控的切削,避免微裂纹与崩边,确保表面平整度与粗糙度稳定。

宏崴解方: 我们的客制化研磨配方与专业技术支援,能精准分析并解决由耗材引起的表面缺陷,显著提升产品良率。

宏崴解方: 透过创新的研磨抛光耗材优化的制程建议,帮助您缩短抛光时间,大幅提升生产效率,降低单片成本。

宏崴解方: 宏崴在确保卓越品质的同时,提供具市场竞争力的价格,为您实现更优异的总体拥有成本 (TCO)。

宏崴解方: 我司金刚石研磨工具具备极高硬度与耐磨性,可大幅提升切削率与加工效率,缩短加工时间。

技术洞察 / 产业观点

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