随着晶片微缩逐渐逼近物理极限,传统制程的效能提升已难再以线宽缩小实现。为了维持计算效能与能源效率的成长,业界目光逐渐转向 先进封装(Advanced Packaging) 技术。
透过在晶片间导入高密度互连与立体堆叠,先进封装能在不改变晶片架构的情况下,实现高速传输、低功耗与高整合度。其中,CoWoS 技术 是近年最具代表性的高效能封装方案,并衍生出多种延伸形式,如 CoPoS 与 CoWoP,构成新一代封装技术的主要发展方向。
目录
CoWoS 技术基础:2.5D 与 3D 整合的核心
CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate)是一种以 中介层(Interposer) 为中心的高密度封装架构。其设计概念是将多颗晶片先在晶圆阶段进行堆叠与连结,再整体封装于基板上。这样的结构可缩短讯号传输距离,并同时降低功耗与系统尺寸。
根据中介层材质与互连方式的不同,CoWoS 技术可分为三大类:
- CoWoS-S:采用矽中介层,具备最高的导电密度与整合能力,适合高效能运算应用。
- CoWoS-R:以 RDL(重布线层)取代矽中介层,降低制程成本并提高设计弹性。
- CoWoS-L:混合矽与 RDL 的设计,兼具高效能与成本效率,能支援更多晶片与记忆体的堆叠。
CoWoS-L 被视为现有架构中的平衡点,既能突破中介层面积限制,又能维持高速讯号传输与良好的散热效能。
CoPoS:面板化封装,开启「以方代圆」新时代
随着 AI 与高效能运算晶片尺寸持续放大,传统圆形晶圆的面积利用率与产能逐渐受限。为此,CoPoS(Chip-on-Panel-on-Substrate) 的面板级封装概念应运而生。
CoPoS 采用方形的「面板 RDL 层」取代圆形晶圆中介层,晶片可直接排列于矩形基板上,并以封装制程连接至底层载板。这样的设计不仅提高了面积利用率与生产效率,也能整合不同尺寸晶片,减少封装翘曲与良率问题。
此外,面板材料可采用玻璃或蓝宝石等高稳定性介质,有助于提升散热能力并降低翘曲变形。
目前主流尺寸方向包括 310×310 mm、515×510 mm、750×620 mm 等规格,逐步推动封装制程「由圆转方」,并成为后摩尔时代的潜在主流趋势。
值得一提的是,CoPoS 虽与 FOPLP(Fan-out Panel Level Packaging) 同样属于面板级封装,但定位明显不同:
- CoPoS 用于高效能晶片与中介层整合。
- FOPLP 则多用于电源管理晶片、射频晶片等中低阶应用,不需中介层结构。
CoWoP:封装层级再简化的创新路线
与 CoPoS 追求面板化不同,CoWoP(Chip-on-Wafer-on-Platform PCB) 的目标是简化封装层级结构。传统 CoWoS 结构中,晶片与记忆体模组之间须透过中介层、封装基板与 BGA 焊球逐层连接至主机板,造成结构复杂与成本叠加。
CoWoP 则直接省略封装基板与 BGA,改以具高精密度互连能力的 PCB 主机板(Platform PCB) 作为承载层,让中介层与晶片模组能直接安装于 PCB 上。
這樣的方式可縮短訊號傳輸路徑、提升訊號完整改善散熱與供電效率。
若该技术成功量产,将可能重新定义封装与电路板之间的边界,并在高效能系统架构设计上带来显著变化。
WMCM:晶圆级多晶片整合的另一条路
除上述技术外,WMCM(Wafer-Level Multi-Chip Module) 也是值得关注的新封装方向。此技术可视为晶圆级多晶片整合(Wafer-Level Integration)的一种形式,属于传统封装的平面化延伸版本。
WMCM 不再采用晶片垂直堆叠,而是将逻辑晶片与记忆体平面整合于同一晶圆层面中,并以 RDL 结构取代中介层。此设计能同时改善散热瓶颈与讯号延迟,并简化封装厚度与成本。
由于所有整合动作在晶圆阶段完成,再切割为单颗晶片,因此能实现更轻薄、高效的多晶片模组结构。
从封装创新迈向系统整合
从 CoWoS 到 CoPoS、再到 CoWoP 与 WMCM,可以看出封装技术的核心思路正从「晶片堆叠」转向「系统整合」。
不同架构的诞生,反映出产业在面对效能、良率、散热与成本等挑战时的多元解法。未来,随着异质整合与晶片分工的深化,先进封装将成为延续摩尔定律精神的关键技术。
而谁能在这场封装革命中掌握关键材料、制程与设计能力,谁就能在后制程时代,主导下一个高效能晶片的未来。
参考资料:
- CoWoS、CoPoS、CoWoP 傻傻分不清,谁才是下一代最该关注的技术?
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