研磨拋光與表面粗糙度對照表

前言

「表面粗糙度」即為表面粗不粗糙、光不光滑，它與我們的生活息息相關，從生產到製造，掌握他的預度，至關重要。在文章開始前先給大家一個觀念，即是「並非所有的東西都應該追求極致的光滑，而是應該了解需求追求『適當的粗糙度』」。

為甚麼呢?

因為當我們加工時如果設定一個過低的RA值時，他所需要耗費的人力、時間、成本可能都是翻倍再翻倍的事

所以不如選擇合適的粗糙度，更是當前加工選擇中最高效的選擇

在製造和加工產品時，表面的質量非常重要。表面粗糙度和光潔度是兩個關鍵指標，但它們的意義和測量方式不同。

表面粗糙度：是指表面上的微小起伏和不平整度，這會影響產品的功能和耐用性，通常用像 Ra 這樣的數值來表示。

光潔度：則是描述表面有多光滑和能反射光線的程度。表面越光滑，光潔度就越高，這會讓產品看起來更亮麗和有光澤。

粗糙度會影響光潔度：表面越粗糙，光潔度通常就越低，因為光線會被散射而不是反射。相反，低粗糙度能讓表面更光滑，提高光潔度，使產品看起來更高級。

為了達到理想的光潔度，通常需要使用專業的拋光材料來進行處理。這些拋光材料能有效去除表面的微小不平整，使表面變得更加光滑，從而提高光潔度。 了解粗糙度、光潔度及如何使用拋光材料來改善表面質量，對於製造高品質的產品至關重要。不管是為了提升產品的性能還是外觀，控制表面粗糙度並達到合適的光潔度是關鍵步驟。

表面粗糙度對照表

表面情況	基準長度	說明	表面粗糙度
			RA	RY(Rmax)	RZ
超光面	0.08	以超光製加工方法加工所得之表面，其加工面光滑如鏡面。	0.010 a	0.040 s	0.040 z
			0.012 a	0.050 s	0.050 z
			0.016 a	0.063 s	0.063 z
			0.020 a	0.080 s	0.080 z
	0.25		0.020 a	0.080 s	0.080 z
			0.025 a	0.100 s	0.100 z
			0.032 a	0.125 s	0.125 z
			0.040 a	0.16 s	0.16 z
			0.050 a	0.20 s	0.20 z
			0.063 a	0.25 s	0.25 z
			0.080 a	0.32 s	0.32 z
			0.100 a	0.40 s	0.40 Z
精切面	0.8	經一次或多次精密車、銑、磨、搪光、研光、擦光、抛光，或刮、絞、搪等有屑切削加工法所得之表面，幾乎無法以觸覺或視覺分辨出加工之刀痕。	2.5 a	10.0 s	10.0 z
			3.2 a	12.5 s	12.5 z
			4.0 a	16 s	16 z
			5.0 a	20 s	20 z
			6.3 a	25 s	25 z
			8.0 a	32 s	32 z
			10.0 a	40 s	40 z
細切面	2.5	經一次或多次較精細車、銑、刨、磨、鑽、搪、絞或銼等有屑切削加工所得之表面，以觸覺試之，似甚光滑，但由視覺仍可分辨出有模糊之刀痕。	2.5 a	10.0 s	10.0 z
			3.2 a	12.5 s	12.5 z
			4.0 a	16 s	16 z
			5.0 a	20 s	20 z
			6.3 a	25 s	25 z
			8.0 a	32 s	32 z
			10.0 a	40 s	40 z
粗切面	8	經一次或多次粗車、銑、刨、磨、鑽、搪或銼等有屑切削加工所得之表面，能以觸覺及視覺分辨出殘留明顯刀痕。	12.5 a	50 s	50 z
			16.0 a	63 s	63 z
			20 a	80 s	80 z
			25 a	100 s	100 z
			32 a	125 s	125 z
			40 a	160 s	160 z
			50 a	200 s	200 z
			63 a	250 s	250 z
			80 a	320 s	320 z
光胚面	25或25以上	一般鑄造、鍛造、壓鑄、輥軋、氣焰或電弧切割等無屑加工方法所得之表面，必要時尚可整修毛頭，惟其黑皮胚料仍可保留。	100 a	400 s	400 z
			125 a	500 s	500 z

表面粗糙度與光潔度對照表

級別代號	RA	RZ
△14	≤0.01 um	≤0.05 um
△13	>0.01~0.02 um	>0.05~0.1 um
△12	>0.02-0.04 um	>0.1 ~0.2 um
△11	>0.04-0.08 um	>0.2 ~0.4 um
△10	>0.08~0.16 um	>0.4-0.8 um
△9	>0.16~0.32 um	>0.8~1.6 um
△8	>0.32 ~0.63 um	>1.6-3.2 um
△7	>0.63~1.25 um	>3.2~6.3 um
△6	>1.25~2.5 um	>6.3~10 um
△5	>2.5~5 um	>10~20 um
△4	>5~10 um	>20~40 um
△3	>10~20 um	>40~80 um
△2	>20-40 um	>80~160 um
△1	>40~80 um	>160~320 um

研磨拋光與表面粗糙度對照表

---

實務對策：如何達到您預期的表面粗糙度目標？

看完上述的表面粗糙度（Ra）對照表後，精密加工現場的工程師與採購最核心的任務，就是如何用最低的成本、最高的效率達到目標數值。粗糙度不是粒子越細越好，而是要針對工件材質與製程「對症下藥」。

宏崴技術團隊為您整理出以下三大實戰進階指南，助您快速攻克產線良率瓶頸：

1. 1.當前測量的表面粗糙度是否達到您預期的目標
2. 2. 如何解決 解決方案>>> 六種 模具拋光 ，你認識了多少？
3. 3. 執行 >>> 拋光磨料、拋光設備、拋光工具
4. 4.覆盤

1. 了解您工件材質的官方推薦配置

當您明確知道了工件要求的 Ra 值，產線該如何配置拋光液、鑽石膏或拋光粉？宏崴特別針對「半導體晶圓、硬質/軟質金屬、光學 LCD 玻璃」等不同硬度的材料，外加您最常詢問的多晶鑽石微粉，整理出一份極度直覺的耗材推薦配置對照表，助您大幅提升移除率： 👉 延伸閱讀： 《拋光耗材對應參考表：一次找對半導體、金屬與陶瓷的專用拋光液》

2. 攻克高硬度模具鋼材的超精密研磨

如果您目前的加工工件屬於碳化鎢（鎢鋼）、模具熱處理鋼等硬質金屬，追求極致低 Ra 值的超精切面或超光面（鏡面）時，傳統單晶鑽石磨料容易碎裂留下深層刮痕。宏崴強烈建議選用具備自銳特性的磨料，利用微晶持續破碎產生新切削點的物理原理，縮短 50% 研磨時間： 👉 延伸閱讀： 《拋光界的黑科技：為什麼高手都選多晶鑽石？專業選料全攻略》

3. 化合物半導體晶圓的「埃級（Å）」良率革命

若您的產線正在經手 GaAs（砷化鎵）、InP（磷化銦）或高階光學藍寶石，要求粗糙度達到奈米甚至埃級（Ra ≤ 0.01 µm / △14 級別代號）的極端嚴苛標準，為了死守良率、徹底解決微刮痕與奈米粉體自我團聚的痛點，您需要的是具備圓球形各向同性優勢的黑科技磨料： 👉 延伸閱讀： 《砰！炸出來的等級傳說：奈米鑽石的「超進化」全紀錄》

📈 協同效應：讓專業動力設備設備，解放耗材 120% 的切削力

當您選對了上述的專用拋光耗材，若能進一步搭配宏崴引以為傲的 HANDY-700 電動超音波振動研磨機 或是 U-Lap 氣動刻磨機系列 進行製程施作，將能讓磨料的移除率與穩定度發揮到最極致的表現，完美攻克精密模具深槽與死角。

如果您看完上述對照表，仍對自家工件的番號跳階（例如從 #400 直接跳至 #10000 導致深層劃痕無法消除）有所疑問，或有大批量產線的客製化專用多晶鑽石微粉調配需求，歡迎隨時與宏崴專家團隊聯絡，我們將由專人為您提供一對一的製程解答與商品報價！

---

如果看完內文還是不知道怎麼挑選最適合的。

歡迎跟我們聯絡，我們會有專人為您解答

如有需要訂製報價也歡迎與我們聯繫

客服時間：周一至周五09:00~18:00

電話：07 223 1058

有想了解的題材或電話說不清楚的都歡迎私訊臉書~~

宏崴臉書：https://www.facebook.com/honwaygroup

---

您可能感興趣的文章…