HW601-氧化鈰-金相拋光墊/布 商品特色
拋光是為了要將式樣上的細微刮痕與磨痕去除，成為光亮無痕的鏡面，使觀測更準確，可搭配
宏崴單晶.多晶鑽石拋光液/鑽石拋光膏.氧化鈰拋光液.氧化鋁拋光液等使用。
配合磨料≥2um，適合精密拋光。
- 高平整度、高耐磨度、高光潔度。
- 蕭氏硬度:75-85。
- 產品提供 :不背膠拋光織物、背膠拋光布兩種。
- 產品刻槽提供 :刻槽、不刻槽二種。
- 產品厚度提供 :2.0mm、2.5mm、3.0mm三種。
刻槽規格
| 厚度 | •0.5-5.0mm •常規厚度為2.0mm |
| 槽寬 | 2.0±0.2mm |
| 槽深 | 0.7±0.2mm |
| 方格尺寸 | 18±0.2mm |
適用範圍
- 適用於水晶工藝品、光學鏡片、鐘錶玻璃、半導體、精密光學儀器、LED基板、矽片、寶石、水晶玻璃元件、精密光學鏡頭、玻璃眼鏡片、錶殼等各種玻璃類材質的表面精密拋光。
商品規格
外徑：
Ф200mm(Ф8in).Ф230mm(Ф9in).Ф250mm(Ф9.5in).Ф300mm(Ф12in)等,其他尺寸規格亦可客製化。
※聯繫客服訂製，最大可到Ø990mm。
1.商品優勢
| 他牌產品 | 宏崴選品(勝) | 宏崴選品優勢 |
拋光織物 雙面膠層 離型紙層
僅三層設計 | 拋光織物 功能膠層 補強層 雙面膠層 離型紙層 | 不易起皺 防水性強 不易脫落 平整度高 |
2.如何選擇
※如何選擇拋光墊尺寸 無背膠拋光墊 > 機台盤 背膠拋光墊 = 機台盤 背磁拋光墊 = 機台盤
3.注意事項
- 為獲得更高的平整度，盤底請勿張貼標籤之類的物品避免影響工件平整度。
- 拋光墊與機器接觸面必須保持非常平整、乾淨、乾燥，避免影響工件平整度。
- 使用完後請小心取下，用水沖洗，晾乾即可。
- 請勿彎折損傷精拋光墊。
- 安裝及取下時請小心安裝，避免磁力吸引，夾傷手。
