晶圓平面磨削用砂輪

  • 適用於多種晶圓材料,滿足不同製程需求。
  • 具備穩定的高材料移除率,有效縮短加工時間,提升生產效率。
  • 優異的磨耗控制設計使砂輪使用壽命更長。
  • 研磨過程中研削阻力低,有助於保護設備與工件,穩定加工品質。
  • 適用於矽晶圓的平坦化及背面減薄研磨加工。
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晶圓平面磨削用砂輪

宏崴實業提供客製化服務,

為您製作最適合的晶圓平面磨削用砂輪

產品特點:

  • 適用於多種晶圓材料,滿足不同製程需求。
  • 具備穩定的高材料移除率,有效縮短加工時間,提升生產效率。
  • 優異的磨耗控制設計使砂輪使用壽命更長。
  • 研磨過程中研削阻力低,有助於保護設備與工件,穩定加工品質。

用途:

  • 矽晶圓的平坦化
  • 背面減薄研磨

應用領域:

  • 矽半導體晶片、化合物半導體晶片、陶瓷晶片(氧化鋁、AlN)。
  • 寬能隙半導體晶圓(SiC、GaN),聲表面波濾波器片(LT,LN),藍寶石玻璃晶片。
  • TSV封裝晶圓(銅/化合物)。

訂購砂輪時請指明下列事項:

  • 砂輪之形狀及各部尺寸:如1A1、14A1
  • 磨料種料:鑽石
  • 粒度:例如:#150
  • 集中度:例如:C-75
  • 結合劑:例如:樹脂結合劑或陶瓷結合劑
  • 冷卻方式:乾磨或濕磨
  • 數量及交期:
  • 轉速及加工條件:
  • 加工設備型號:
  • 多數製造商都會在砂輪上標示以下資訊:
磨料種類 150
粒度
N
結合度
75
集中度
R
結合劑
3.0
磨料層厚度
D : 天然鑽石
SD : 人造鑽石
#60
#80
#100
#150
#200
#270
#325
#400
#600
J / 軟
L
N
P
R / 硬
25
50
75
100
125
150
R: 樹脂結合
V: 陶瓷法
1.0mm
1.5mm
2.0mm
3.0mm
5.0mm
10.0mm

來圖範例

規格比較

WH-BH7

此款砂輪因具有良好的自銳作用,即使是難以進行無修銳連續磨削的蝕刻面,也可以做到無修銳連續磨削。因採用高性能的結合劑類別及砂輪設計,磨削阻力小,使用壽命長,能獲得高磨削比。

WH-BH14

此款砂輪採用降低磨削阻力的填充劑及多氣孔結構,所以在極低的負荷下也可完成磨削作業。研磨晶圓時,能將損傷減到最小,獲得良好的表面加工品質。

WH-VDW

此款砂輪成功使細微的鑽石磨粒均勻分布,消除了陶瓷結合劑容易出現的刮傷問題。因陶瓷結合劑的磨粒保持力強,可達成高精度的鏡面表面精磨。

另外,此款砂輪為多氣孔砂輪,能夠抑制磨削阻力上升。

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