HW402-聚氨酯-金相抛光垫/布 尺寸可客制

NT$360NT$9360

•配合磨料≤1.5um,适合中级抛光。 •聚氨酯研磨抛光垫系列是一种高平整度的多孔人造合成材料,产品拥有平整的表面,由抛光层、存储磨料层、保护层组成;是一种在聚氨酯基材上生长出来的特殊的垂直微孔结构。 •工件与抛光垫之间的压力使垂直微孔结构形成一个使磨料快速流动的泵,从而提供了一个优异的表面抛光过程。垂直微孔结构提高了抛光布的承载量并增加了抛光布的使用寿命。 •产品提供 :不背胶抛光织物、背胶抛光布、背磁抛光布三种。

▲可客製尺寸請洽客服詢問
▲訂購量多可享有優惠折扣,請洽客服詢問
▲出貨交期大約7-14個工作天

 

SKU: N/A 分类: 标签: , ,

HW402-聚氨酯-金相抛光垫/布 商品特色

拋光是為了要將式樣上的細微刮痕與磨痕去除,成為光亮無痕的鏡面,使觀測更準確,可搭配
宏崴單晶.多晶鑽石拋光液/鑽石拋光膏.氧化鈰拋光液.氧化鋁拋光液等使用。 配合磨料≤1.5um,適合中級拋光。

  • 聚氨酯研磨抛光垫系列是一种高平整度的多孔人造合成材料,产品拥有平整的表面,由抛光层、存储磨料层、保护层组成;是一种在聚氨酯基材上生长出来的特殊的垂直微孔结构。
  • 工件与抛光垫之间的压力使垂直微孔结构形成一个使磨料快速流动的泵,从而提供了一个优异的表面抛光过程。垂直微孔结构提高了抛光布的承载量并增加了抛光布的使用寿命。
  • 产品提供 :不背胶抛光织物、背胶抛光布、背磁抛光布三种。

适用范围

  • 适用于金、银、铂、石墨等电极抛光;光纤、树脂固化体、平面抛光机、树脂工艺品、水晶工艺品、仪器、软金属、光学玻璃、电子半导体、精密光学透镜、晶体宝玉石、金相切片等抛光。

商品规格

外径:Ф127mm(Ф5in).Ф200mm(Ф8in).Ф230mm(Ф9in).Ф250mm(Ф9.5in).Ф300mm(Ф12in).Ф350mm(Ф14in).Ф380mm(Ф15in).Ф500mm(Ф20in).Ф650mm(Ф26in)等,其他尺寸规格亦可客制化。

1.商品优势

他牌產品宏崴選品(勝)宏崴選品優勢

抛光织物

双面胶层

离型纸层

 

仅三层设计

抛光织物

功能胶层

补强层

双面胶层

离型纸层

不易起皱

防水性强

不易脱落

平整度高

2.如何选择

※如何選擇拋光墊尺寸
無背膠拋光墊 > 機台盤
背膠拋光墊 = 機台盤
背磁拋光墊 = 機台盤

3.注意事项

  1. 为获得更高的平整度,盘底请勿张贴标签之类的物品避免影响工件平整度。
  2. 抛光垫与机器接触面必须保持非常平整、干净、干燥,避免影响工件平整度。
  3. 使用完后请小心取下,用水冲洗,晾干即可。
  4. 请勿弯折损伤精抛光垫。
  5. 安装及取下时请小心安装,避免磁力吸引,夹伤手。

4.其他

聚氨酯抛光垫和抛光皮的差异

 

聚氨酯垫结构

尺寸

Ф127mm(Ф5in), Ф200mm(Ф8in), Ф230mm(Ф9in), Ф250mm(Ф9.5in), Ф300mm(Ф12in), Ф350mm(Ф14in), Ф380mm(Ф15in), Ф500mm(Ф20in), Ф650mm(Ф26in)

背基

不背胶抛光织物, 背胶抛光布, 背磁拋光布

Scroll to Top