如何以化学气相沉积法制作金刚石?
化学气相沉积（CVD）可产生纯度高、效能好的固态材料。先将一颗作为「核心」的小金刚石放入真空环境 去除杂质，注入摄氏 3,000 度的高温气体–甲烷及氢气，这些高温气体会裂解生成带电荷离子体，而从甲烷裂解物中释放出碳原子。碳离子会沉积在金刚石表面，并且复制原来放进去的它的结构继续成长，速度生长是每小时 0.006 公厘，可以在几天内生长出一颗 1 克拉金刚石。化学气相沉积法可以用以制造钻石的发现，有效提升了金刚石产量以及应用性。
制程气体
化学气相法沉积金刚石薄膜的制程气体，大多由甲烷、氢气和氩气，以特定比例混合而成。其中最常用的是1％甲烷及99％氢气的混合气体，而氩气常用来稀释气体。
常见基底
作为气象沉积法的常见基底如硅、金属、金属化合物；当前驱物蒸气接触到基底，就有可能发生不同变化，如沉积、分解等反应产生欲合成附着在基底上，这些分子持续地累积，便能得到我们想要的材料。
化学气相沉积法﹙CVD﹚的优点
- 前期设备成本较低
- 培育出的金刚石克拉数更高
- 培育出的金刚石净度较高
- 培育出的金刚石不含金属内含物
化学气相沉积法最大的优点，在于可以沉积在各种不同的基板上，而且成长条件不如高温高压法严峻，因此金刚石成品拿来应用是很好的选择。另外，可以透过不同的参数长出各式各样的金刚石，依不同的大小可区分为:微米金刚石、奈米金刚石、超奈米金刚石等。
