HW601-酸化セリウム-メタログラフィックポリッシングパッド/クロス の製品の特徴
拋光是為了要將式樣上的細微刮痕與磨痕去除，成為光亮無痕的鏡面，使觀測更準確，可搭配
宏崴單晶.多晶鑽石拋光液/鑽石拋光膏.氧化鈰拋光液.氧化鋁拋光液等使用。 配合磨料≥2um，適合精密拋光。
- 高い平坦性、高い耐摩耗性、高い光沢仕上げ。
- ショア-硬さ:75-85。
- 製品：非粘着研磨布と粘着研磨布。
- 溝には、溝付きと溝なしの2種類がある。
- 製品の厚さは2.0mm、2.5mm、3.0mmからお選びいただけます。
溝付きの仕様
| 厚さ | •0.5-5.0mm •通常の厚さは2.0mm |
| 溝付きの幅 | 2.0±0.2mm |
| 溝付きの深み | 0.7±0.2mm |
| グリッドサイズ | 18±0.2mm |
適用の範囲
- クリスタル工芸品、光学レンズ、時計ガラス、半導体、精密光学機器、LED基板、シリコンウエハー、宝石、クリスタルガラス部品、精密光学レンズ、ガラス眼鏡レンズ、時計ケースなど、様々なガラス材料の表面の精密研磨に適しています。
製品仕様
外径： Ф200mm(Ф8in).Ф230mm(Ф9in).Ф250mm(Ф9.5in).Ф300mm(Ф12in)など。他のサイズもカスタマイズできます。 ※カスタマイズについてはカスタマーサービスにお問い合わせください。製作可能な最大サイズはØ990mmです。
1.商品の優位性
| その他のブランド製品 | Honwayの製品（勝つ) | Honway製品の優れ |
ポリッシュド・ファブリック 両面粘着層 剥離紙層
3フロアのみ | ポリッシュド・ファブリック 機能層 補強層 両面粘着層 剥離紙層 | シワになりにくい 防水性能が強い 簡単には剥がれない 高い平坦性 |
2.どのように選ぶか
※如何選擇拋光墊尺寸 無背膠拋光墊 > 機台盤 背膠拋光墊 = 機台盤 背磁拋光墊 = 機台盤
3.留意点
- より高い平坦度を得るため、ワークの平坦度に影響を与えないよう、トレイの底にラベルなどを貼らないでください。
- 琢磨パッドと機械の接触面は、ワークピースの平坦度に影響を与えないよう、非常に平坦で、清潔で、乾燥した状態に保たれていなければなりません。
- 使用後は丁寧に取り外し、水ですすいで乾燥させる。
- 研磨パッドを傷つけたり、曲げたりしないでください。
- 取り付け、取り外しの際は、磁石の吸着や手の怪我にご注意ください。
