シリコンウェハー、化合物結晶、光学装置、LCDパネル、宝石、金属ワークなどの研削と精密研磨に広く使用されています
| 研削・研磨液シリーズ |
◎単結晶ダイヤモンド研削液
◎多結晶ダイヤモンド研削液（PDS）
◎ナノダイヤモンド研削液（NDS）
単結晶ダイヤモンド研削液：切削効果が高く、硬い材料の研削や研磨に適している。
多結晶ダイヤモンド研削液：独自の靭性と自己研磨特性により、高い研削力を実現し、傷がつきにくい。 精密金属材料の研削・研磨に適しています。
ナノダイヤモンド研削液：分散安定性が良く、超精密研磨に適している。
| 単結晶ダイヤモンド微粉末 |
ダイヤモンド微粉末は粉砕、成形、精製、分級、後加工により製造される超硬研削・研磨材で、高い硬度、強度、靭性、熱伝導性、良好な熱安定性、耐衝撃性を有する。
| 共通仕様 | 単位：ミクロン | ||||
| 0-0.5 (0.25um) | 0-1 (0.5um) |
0-2 (1um) |
1-3 (2um) |
2-4 (3um) |
4-6 (5um) |
| 6-12 (8um) | 8-16 (10um) | 10-20 (15um) | 15-25 (20um) | 20-30 (25um) | 20-40 (30um) |
| 35-45 (40um) | 55-65 (50um) | 50-60 (55um) | |||
㊟ 上記はすべて標準仕様で、お客様のご要望に合わせ、カスタマイズすることも可能です。
| 多結晶ダイヤモンド微粉末 |
高品質のダイヤモンドを使用し、独自の製法で作られた新しいタイプの研削材。
| 共通仕様 | 単位：ミクロン | |
| 0-2 (1um) | 1-3 (2um) | 2-4 (3um) |
| 3-5 (4um) | 4-6 (5um) | 4-8 (6um) |
| 6-8 (7um) | 7-9 (8um) | 8-10 (9um) |
| 9-11 (10um) | 10-12 (11um) | |
㊟ 上記はすべて標準仕様で、お客様のご要望に合わせ、カスタマイズすることも可能です。
高品質のダイヤモンドを使用し、独自の製法で作られた新しいタイプの研削材。
| 共通仕様 | 単位：ミクロン | |
| 0-2 (1um) | 1-3 (2um) | 2-4 (3um) |
| 3-5 (4um) | 4-6 (5um) | 4-8 (6um) |
| 6-8 (7um) | 7-9 (8um) | 8-10 (9um) |
| 9-11 (10um) | 10-12 (11um) | |
㊟ 上記はすべて標準仕様で、お客様のご要望に合わせ、カスタマイズすることも可能です。
| ナノダイヤモンド |
ナノダイヤモンドは、負酸素バランス爆薬を使用した起爆過程で生成される遊離炭素であり、起爆時の圧力と温度を制御することにより、5〜20ナノ粒子に変化する。
特殊な合成条件を用いた微結晶ダイヤモンド粒子は、ほぼ球形で、表面に官能基を豊富に持つため、通常のダイヤモンド製品に比べ比表面積が桁違いに大きくなる。ナノダイヤモンドは、通常の人工ダイヤモンドよりも硬度や研削性に優れるだけでなく、機能性ナノ材料としての新たな特性も備えている。
ナノダイヤモンドは、負酸素バランス爆薬を使用した起爆過程で生成される遊離炭素であり、起爆時の圧力と温度を制御することにより、5〜20ナノ粒子に変化する。
特殊な合成条件を用いた微結晶ダイヤモンド粒子は、ほぼ球形で、表面に官能基を豊富に持つため、通常のダイヤモンド製品に比べ比表面積が桁違いに大きくなる。ナノダイヤモンドは、通常の人工ダイヤモンドよりも硬度や研削性に優れるだけでなく、機能性ナノ材料としての新たな特性も備えている。
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共通仕様
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単位：ナノ | ||
| 50nm | 80nm | 100nm | 120nm |
| 150nm | 200nm | 300nm | 500nm |
| 800nm | 1000nm | ||
㊟ 上記はすべて標準仕様で、お客様のご要望に合わせ、カスタマイズすることも可能です。
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酸化セリウム研磨液
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粒子の浮遊性がよく、対象物の表面を傷つけにくいため、光学ガラスや携帯電話のガラスなどを磨くことができる。
-
精密光学機器、ハードディスク基板、液晶モニター等の高精度光学ガラス研磨。
-
光学レンズ、光ファイバーコネクター、微結晶ガラス基板、水晶表面…等の精密研磨。
この2色にはさまざまな種類とサイズがあり、顧客のニーズに応じて選ぶことができる。
※粒度の仕様は、お客様のご要望に応じて調整することができます。
粒子の浮遊性がよく、対象物の表面を傷つけにくいため、光学ガラスや携帯電話のガラスなどを磨くことができる。
-
精密光学機器、ハードディスク基板、液晶モニター等の高精度光学ガラス研磨。
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光学レンズ、光ファイバーコネクター、微結晶ガラス基板、水晶表面…等の精密研磨。
この2色にはさまざまな種類とサイズがあり、顧客のニーズに応じて選ぶことができる。
※粒度の仕様は、お客様のご要望に応じて調整することができます。
| 二酸化珪素研磨液 |
- シリコンウェーハ、炭化珪素ウェーハ、サファイアウェーハ、化合物半導体ウェーハ、ヒ化ガリウムウェーハ、窒化ガリウムウェーハ、精密光学部品、各種回路基板…等
- 陶磁器、石材などの研磨。
- シリコンウェーハ、炭化珪素ウェーハ、サファイアウェーハ、化合物半導体ウェーハ、ヒ化ガリウムウェーハ、窒化ガリウムウェーハ、精密光学部品、各種回路基板…等
- 陶磁器、石材などの研磨。
| 酸化アルミニウム研磨液 |
懸濁性が良く、純度が高く、粒径が細かいため、傷がつきにくい。
光学結晶、電子ガラス、液晶ガラス…等の研磨に使用することができます。
- マグネットヘッド、サファイア、水晶、半導体研磨。
- 金属、陶磁器、ガラスなどの硬質材料の精密研磨。
